Tabletten Oberflächenprofile Rasterelektronenmikroskopie #5
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Tabletten Oberflächenprofile Rasterelektronenmikroskopie #5

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Dienstleister strucTEM
Artikel Nr. 2018011908

Tabletten Oberflächenprofile Rasterelektronenmikroskopie #5

Rasterelektronenmikroskopische Höhenprofile von Tabletten-Oberflächen
Als Grundlage für die Bestimmung von Rauheitsparametern, Qualitätskontrollen & sowie Produktentwicklungen

Unsere REM Analyse:

  • Eine Tabletten-Probe
  • 5 Oberflächenprofile inklusive Abbildungsmaßstab
    Dies können sowohl die Original-Oberflächen oder auch Bruchflächen sein
  • 5 Höhenprofil-Dateien
  • 5 REM-Aufnahmen der Höhenprofil-Bereiche
  • Vergrößerungen: ca. 200fach bis ca. 10.0000fach, je nach Dimensionen der Strukturen
  • Angabe der Dimensionen auffälliger Strukturen
  • Ein PDF-Analysebericht inkl. der Aufnahmen wird per Email zugesandt.
  • Die Original Aufnahmen werden auf dem strucTEM-Server zum Download bereitgestellt

Bildbeispiele: Elektronenmikroskopische Oberflächenprofile von unterschiedlichen Tablettenoberflächen


Gerne senden wir Ihnen ein individuelles Angebot für Staffelpreise zu.

Anmerkungen zu Probenversand, Probenaufbewahrung und unseren AGB für Analysen

  • ​Die Kosten für den Probenversand an strucTEM übernimmt der Kunde.
  • Informationen zum Probenversand erhalten Sie separat per Email.
  • Gesundheitsgefährdende Stoffe/Proben dürfen nur nach vorheriger Rücksprache an strucTEM geschickt werden (s. AGB).
  • Die Proben werden mindestens 2 Wochen nach Probenanalyse von strucTEM aufbewahrt.
  • Ein Rückversand der Proben ist nicht vorgesehen. Auf Wunsch kann dieser erfolgen. Die Kosten für den Rückversand übernimmt  dann der Kunde.
  • Weitere Einzelheiten zu unseren AGB für Probenanalysen finden Sie in unseren AGB.

 

Rasterelektronenmikroskopie

- Die Abbildung entsteht im Elektronenmikroskop (EM) durch die Wechselwirkung von Elektronen mit dem Objekt.
- Beim Rasterelektronenmikroskop (REM) wird der Elektronenstrahl dabei über das abzubildende Objekt gerastert.
- Charakteristisch sind Abbildungen von Oberflächen mit hoher Schärfentiefe.
- Übliche Auflösungen: 1-30nm (je nach Instrument). Das Limit liegt derzeit bei ca. 0.4 nm.
- Übliche Vergrößerungen: 10 - 300.000x
 

 

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